封装设备
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  • 设备分类:封装设备     型号:CMS-DW300     房间:D201 简介:设备用于晶圆划片道精确填充专用纳米材料,实现良好的Underfill效果,对比现有晶圆划片道PECVD填充技术,具有节省材料,减少抛磨量,有效提升良率与效率,是高端芯片生产制造的核心装备之一。 查看更多
  • 设备分类:封装设备     型号:EHDJET-FC     房间:D201 简介:设备基于高分辨率打印技术,可适应宽泛浆料粘度,具备高精度图案打印与原位芯片贴装功能,可提供电子器件一体制造解决方案(如焊料注入+贴装、电路打印+贴片) 查看更多
  • 设备分类:封装设备     型号:CMT-FC300     房间:D201 简介:超薄大芯片高精度堆叠装备是半导体制造专用装备,主要实现大尺寸超薄芯片的无损转移、高精度对准与晶圆的混合键合、离子键合/堆叠等功能。 查看更多
  • 设备分类:封装设备     型号:μGALV-R&D+     房间:D116 简介:德国MOT电镀设备μGALV-R&D+是利用电解原理使金属或合金沉积在基底表面,以形成均匀、致密、结合力良好的金属层的过程。 查看更多
  • 设备分类:封装设备     型号:EVG510     房间:D区1楼 简介:一种高度灵活的晶圆键合系统,可以处理从基板到200mm的基板尺寸。该工具支持所有常见的晶圆键合工艺,例如阳极,玻璃粉,焊料,共晶,瞬态液相和直接法。 查看更多
  • 设备分类:封装设备     型号:HB05     房间:D115 简介:主要用于电子及半导体领域的金丝球焊及楔焊、铝丝楔焊、金带楔焊技术指标楔形、球、凸点和带键合;17微米至75微米引线和25微米×250微米线带;超声功率0-10W;键合力5-130cNm;键合时间0-1秒 查看更多
  • 设备分类:封装设备     型号:DS613     房间:D114 简介:主要用于Si、GaAs、InP、Ge等材料(GAN、蓝宝石材料除外)的切割,切割道宽度小于60μm;加工尺寸:6寸以下兼容;样品厚度要求:小于700μm 查看更多
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