光刻设备-先进微纳加工中心

设备分类：光刻显影 型号：GHG-HMDS-50 房间：D113 简介：用于圆片光刻涂胶前增黏剂HMDS的涂覆作业，使硅片表面达到干燥、洁净的效果，能有效地防止硅片的氧化和杂质的扩散，并通过加液系统在基片表面形成 HDMS保护膜，使基片对光刻胶具有良好的粘附性。查看更多

高精度数控匀胶旋涂仪 WS-650-8N/LITE

设备分类：光刻显影 型号：WS-650-8N/LITE 房间：WS-650-8N/LITE 简介：高精度数控匀胶旋涂仪WS-650-8N/LITE适应于半导体工艺中各类基片表面的材料涂覆。查看更多

EVG紫外曝光机

设备分类：光刻设备 型号：EVG620NT 房间：D区1楼 简介：EVG紫外曝光机是一款通用性和可靠性极强的光刻机，提供先进的掩膜对准技术。查看更多

纳米压印

设备分类：光刻设备 型号：EITRE® 3 房间：D区1楼 简介：纳米压印型号EITRE®3主要功能：高精度纳米压印。紫外压印、热固化压印，最大3英寸查看更多

500纳米精度步进光刻机 Nikon NSR-2005i9C

设备分类：光刻设备 型号：Nikon NSR-2005i9C 房间：D113 简介：500纳米精度步进光刻机Nikon NSR-2005i9C采用曝光光源i-line（365nm波长），把掩膜版上的图形按照5:1比例缩小复制到旋涂有光刻胶的晶圆上，实现投影缩放步进式重复曝光。查看更多

无掩模光刻机 MicroLab Ⅲ

设备分类：光刻设备 型号：苏大维格 MicroLab Ⅲ 房间：D113 简介：无掩模光刻机苏大维格MicroLab Ⅲ采用405nmLED紫外光源和DMD数字微镜直写曝光，可以用于掩模板制作，亚微米及以上任意2D图案曝光和128级3D灰度曝光。查看更多

电子束曝光系统EBL

设备分类：光刻设备 型号：Vistec EBPG 5000plus ES 房间：D113 简介：电子束曝光系统EBL Vistec EBPG 5000plus ES是一款专用的直写电子束图案发生器，用于通过高分辨率电子束光刻技术对大面积区域进行图案化。查看更多

MA8 BA8掩膜对准紫外光刻机

设备分类：光刻设备 型号：MA8 BA8 房间：D区1楼 简介：MA8 BA8紫外曝光机可实现双面对准和接触式曝光功能。光刻机照射出紫外光，通过具有图形的掩膜版，对涂有光刻胶的晶圆曝光，利用感光后的光刻胶在溶液中的溶解速度不同实现图形转移。查看更多

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