抛光设备-先进微纳加工中心

仪器设备

抛光设备

端面小片减薄抛光机 HS系列
设备分类：抛光设备 型号：HS系列 房间：D114 简介：HS310S高精度研磨抛光机，整机采用强防腐稳定结构，内部不少于5根支撑梁加固整机架构，适配4英寸及以下晶圆，可完成平面、端面高精度研磨与抛光加工，可处理铌酸锂、氮化硅、Ⅲ‑V族材料、硅、二氧化硅等多种材料。查看更多
化学机械抛光机 AP-200
设备分类：抛光设备 型号：AP-200 房间：D114 简介：化学机械抛光机AP-200主要应用于晶圆制造、半导体制作以及MEMS器件制作工艺过程中SiO2薄膜，SiN3薄膜以及Si衬底等的平坦化和减薄工艺。查看更多
单面抛光机TSP-450
设备分类：抛光设备 型号：TSP-450 房间：D114 简介：落地式高精度单面抛光设备，配置抛光盘冷却和温度监控系统，保证抛光过程恒温，设备操作简单、配置丰富，可搭配不同抛光垫，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的抛光。查看更多

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