光刻设备
当前位置:首页 - 仪器设备 - 光刻设备 -  正文

高精度数控匀胶旋涂仪 WS-650-8N/LITE


发布人:许 蔚    发布时间:2025-07-25     点击:

       

中文名:高精度数控匀胶旋涂仪

英文名:Spin Coater

仪器型号:WS-650-8N/LITE

设备分类:光刻显影

房间:D113

负责人:郑盼盼/黄 光/张广学


生产厂家:

美国Laurell

仪器介绍:

该匀胶机转速稳定,胶厚均匀。适应于半导体工艺中各类基片表面的材料涂覆。

主要功能

光刻匀胶

技术指标

转速:0--7000转/分钟

尺寸:4英寸及以下尺寸。

注意事项:

应根据基片的尺寸选择不同的吸盘。

禁止旋涂光刻工艺之外的材料

设备运行期间如有任何疑问,请及时联系设备管理员。

价格:

校外:600元/60分钟

校内:400元/60分钟

单位预约时间:30(单位:分钟)


设备大图:
                       


Copyright © 2024 华中科技大学 先进微纳加工中心