薄膜沉积-先进微纳加工中心

仪器设备

薄膜沉积

磁控溅射镀膜机
设备分类：薄膜沉积 型号：JCPY500 房间：D区1楼 简介：进行薄膜新材料的科研与小批量制备。溅射方式：直流/射频；3靶位；可加热。样品托盘为6英寸，溅射面积最大为4英寸；靶材尺寸为直径75毫米。查看更多
电子束蒸发镀膜系统EBE Ohmiker-50B
设备分类：薄膜沉积 型号：Ohmiker-50B 房间：薄膜沉积 简介：电子束蒸发镀膜系统 EBE Ohmiker-50B为产业化提供了稳定的薄膜蒸发支持，可兼容多尺寸样品，4英寸向下兼容，可蒸发多种金属材料：Ni/Ti/Au/Al/Cr/Ag/Cu。查看更多
等离子增强化学气相沉积 PECVD
设备分类：薄膜沉积 型号：Oxford PlasmaPro 800 Stratum 房间：D区1楼 简介：为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统,可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300mm 晶圆处理。查看更多