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中文名：原子层沉积 |
英文名：EBE |
仪器型号：FU-12PEB |
设备分类：薄膜沉积 |
房间：D209 |
负责人：徐 巍 |
生产厂家：
台湾富临科技
仪器介绍：
电子束蒸发设备是一种基于电子束加热原理的真空镀膜设备，属于物理气相沉积技术的一种，广泛用于集成电路芯片、无线通讯芯片、光通讯芯片、半导体激光芯片等制造，沉积各类金属薄膜.
主要功能：
该设备配备6X40CC坩埚，可蒸发单层或多层金属结构，包含Ti，Al，Ni，Au，Cr, Ag , Cu等多种材料。
技术指标：
（1）极限真空：8 ×10-8Torr(12hr)
（2）工作真空：3×10-6Torr(冷泵抽18min后)
（3）温度要求：Max. 200℃，加热丝
（4）连续镀金膜400nm，温度≤50℃
（5）膜厚均匀性： ≦±5%
（6）载片台：6英寸向下兼容
价格：
校外：500元/60分钟
校内：700元/60分钟
单位预约时间：60 单位: 分钟
状态：正常
设备大图：
