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中文名：硅酸乙酯低压化学气相沉积系统 |
英文名：TEOS LPCVD |
仪器型号：MINI TYTAN3600 |
设备分类：薄膜沉积 |
房间：D115 |
负责人：方 程/张广学 |
生产厂家：
TYSTAR USA
仪器介绍：
用于LPCVD沉积SiO2薄膜，TEOS源和氧气在一定温度和压力下，发生反应生成SiO2和挥发性副产物，沉积的SiO2具有良好的台阶覆盖性。平台此台LPCVD配有两根炉管，分别用于用于沉积 SiO2和退火。
主要功能：
第一管：沉积SiO2
第二管： N2 ANNEAL退火
技术指标：
样品舟为4英寸，6英寸。恒温区45cm，单管最多容纳2舟，单舟放置25片；温度控制采用前馈算法，3点式R型内热电偶用于炉管温度控制，外热偶控温和功率测量控温用于备份控温；控温精度：≤±0.5℃@250℃-1250℃，温度分辨率：0.1℃。
注意事项：
本说明针对LPCVD标准工艺，每管承载一个石英舟，每石英舟承载25片4英寸、6英寸标准晶圆，气流稳定，以保障工艺重复性。关于碎片工艺：公共平台已扩展碎片舟托，因气流扰动，因需根据样品形状、舟内排布气流分布差异，碎片成膜速率需各自测定。
价格：
校内：镀SiO2：900元/h，退火：400元/h
校外：镀SiO2：1100元/h，退火：600元/h
单位预约时间：30(单位:分钟)
状态：
正常
设备大图：
