薄膜沉积
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AJA Orion8多靶磁控溅射镀膜系统


发布人:许 蔚    发布时间:2025-07-25     点击:

       

中文名:AJA  Orion8多靶磁控溅射镀膜系统

英文名:AJA Orion8 Multi-target magnetron sputtering system

仪器型号:Orion8

设备分类:薄膜沉积

房间:D117

负责人:徐 巍/张广学/黄 光…


生产厂家:

美国AJA International, Inc.

仪器介绍:

Orion 8多靶磁控溅射镀膜系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。

主要功能:

薄膜材料制备。

技术指标:

溅射靶位:9个2英寸溅射靶

样品台:可容纳最大4英寸基片、电动旋转

加热温度:850°C

工艺气体:4路(Ar/N2/O2/5%H2等)

极限真空:优于5E-8 Torr

注意事项:

需培训合格后方可独立操作。

设备运行期间如有任何疑问,请及时联系设备管理员。

价格:

校外:1000元/60分钟

校内:700元/60分钟

单位预约时间:60(单位:分钟)


设备大图:

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